Zirconium Oxide ZrO₂ | Hafnium Oxide HfO₂ 99.9% Featured Image

Zirconium Oksida ZrO₂ |Hafnium Oksida HfO₂ 99,9%

Katerangan

Zirkonium Oksida ZrO₂, atawa Zirkonium Dioksida, praktis teu leyur dina cai, sarta rada leyur dina HCl jeung HNO₃, titik lebur 2700 ° C, dénsitas 5.85g/cm³, nyaeta kristal euweuh bauan jeung titik lebur tinggi, résistansi tinggi, indéks réfraktif tinggi jeung sipat koefisien ékspansi termal low, nu bahan tahan suhu luhur penting, bahan insulating keramik, sunscreens keramik jeung bahan baku pikeun gems jieunan.ZrO₂nyaeta barang umum nu kudu diteundeun dina tiis, tempat garing sarta well-ventilated, tetep wadahna ditutup pageuh tur jauh ti alkali kuat.Zirkonium Oksida ZrO₂ilaharna dipaké pikeun nyieun logam zirconium jeung sanyawa zirconium, keramik frékuénsi luhur, bahan abrasive, pigmén keramik, bahan refractory na kaca optik.

Pangiriman

Zirconium Oksida atanapi Zirconium Dioxide ZrO₂kalawan purity of ZrO₂+HfO₂≥ 99,9% sareng Hafnium Oksida HfO₂kalawan purity of HfO₂+ZrO₂≥99.9% di Western Minmetals (SC) Corporation bisa dikirimkeun dina ukuran bubuk 60-150mesh, 25kg dina kantong plastik kalayan kendang karton luar, atawa sakumaha spésifikasi ngaropéa.

Pananya ayeuna

Rincian

Tag

Spésifikasi Téknis

ZrO₂& HfO₂

Zirconium Oksida atanapi Zirconium Dioxide ZrO₂ kalawan purity of ZrO₂+HfO₂≥ 99,9% sareng Hafnium Oksida HfO₂kalawan purity of HfO₂+ZrO₂≥99.9% di Western Minmetals (SC) Corporation bisa dikirimkeun dina ukuran bubuk 60-150mesh, 25kg dina kantong plastik kalayan kendang karton luar, atawa sakumaha spésifikasi ngaropéa.

Barang	HfO₂	ZrO₂
Penampilan	Bubuk Bodas	Bubuk Bodas
Beurat Molekul	210.49	123.22
Kapadetan	9,68 g/cm³	5,85 g/cm³
Titik Lebur	2758 °C	2700 °C
CAS No.	12055-23-1	1314-23-4

No.	Barang			Spésifikasi baku
1	Kasucian			Kotoran (PCT Max masing-masing)	Ukuran
2	ZrO2	ZrO₂+HfO₂≥	99,9%	Si 0,01, Fe 0,001, Ti/Na 0,002, U/Th 0,005	60-150 bolong
3	HfO2	HfO₂+ZrO₂≥	99,9%	Fe/Si 0,002, Mg/Pb/Mo 0,001, Ca/Al/Ni 0,003, Ti 0,007, Cr 0,005	100 bolong
4	Bungkusan			25kgs dina kantong plastik kalayan kardus drum luar

Hafnium Oksida HfO₂, atawa Hafnium Dioksida, sanyawa hafnium, HfO₂+ZrO₂≥99.9%, titik lebur 2758°C, kapadetan 9.68g/cm³, teu leyur dina cai, HCl jeung HNO₃, tapi larut dina H₂SO₄jeung HF.Hafnium Oksida HfO₂mangrupakeun bahan keramik jeung gap band lega tur konstanta diéléktrik tinggi.Hafnium Oksida HfO₂paling dipikaresep pikeun ngaganti Gerbang insulator silika tina logam oksida semikonduktor médan tube pangaruh pikeun ngajawab masalah wates ukuran tina ngembangkeun struktur SiO₂ / Si tradisional di MOSFET, ku kituna mangrupa bahan canggih dipaké dina widang microelectronic.Hal ieu ogé loba dipaké pikeun nyieun logam hafnium, sanyawa hafnium, bahan refractory, bahan palapis anti radioaktif, sarta katalis.